HAUTES PERFORMANCES DES LIGNES PLANAIRES MICRO-USINEES SUR MEMBRANE : APPLICATION A LA CONCEPTION DES FILTRES MILLIMETRIQUES

Abstract

L’objectif de cet article est la conception des circuits planaires passifs millimétriques de hautes performances, réalisés par la technique de micro-usinage de silicium. Dans une première partie, nous caractérisons deux types de lignes planaires micro-usinées sur membrane : ligne CMM (Coplanaire Micro-usinée sur Membrane) et ligne SMM (Shielded Micromachined Microstrip), en déterminant leurs constantes effectives et leurs affaiblissements en fonction de la fréquence. La deuxième partie, concerne la conception des filtres millimétriques à large bande avec des réjections abruptes des fréquences indésirables tout en maintenant un niveau de pertes très faible pour les fréquences situées dans la bande passante. Les résultats obtenus sont en bon accord avec ceux publiés [1], [2], [3] et montrent les potentialités des circuits planaires sur membrane pour des applications millimétriques et submillimétriques à hautes performances.